等离子体设备设备对油脂污垢的作用类似于燃烧油脂污垢；但区别在于低温下的燃烧。氧等离子体设备中氧原子自由基的共同作用，使油脂分子氧化为水和二氧化碳分子，从而除去油品接触面。可见，利用等离子体设备清除(去除)油污的步骤是一个有机大分子逐步降解的步骤，生成水、二氧化碳等小分子，以气态形式排除。 等离子体设备设备清洗的另一个特点是清洗后物体已经完全干燥。

     经等离子体设备处理的物体接触面往往形成大多新的活性基团，使物体接触面活(化)，改变性能，可以大大提高物体接触面的渗透性和粘附性，这对大多材料非常重要。因此，等离子体设备设备清洗具有溶剂湿法清洗无法比拟的优点。

     等离子体设备设备清洗由真空室、真空泵、高压电源、电级、汽体导进系统、工件传输系统和控制系统组成。整块清洗步骤一般如下所述；清洗工件送真空固定，起动运作设备，逐渐放气，使真空室真空值到达10帕上下的标准真空值。一般放气时间需要几分钟上下。